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ALD-Anlage

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.·Jena, Germany·EUR 461.3k·Expired · Aug 04, 2026·Open·Supplies
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Oryginalny tytuł ogłoszenia

Germany – Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) – ALD-Anlage

60/100

Ocena szansy

PromisingMedium complexity
SuppliesExpired
Skąd ta ocena?

Szansa

60 / 100

Złożoność

50 / 100

Czynniki ryzyka

Maximum budget of €549,000 gross must not be exceeded. Bids exceeding this amount may be rejected.

Highly specific technical requirements for PE-ALD system with multilayer capability and substrate size range. May limit...

Głęboka analiza portfolio

Głęboka analiza dopasowania firmy

Wykorzystuje:

  • Description
  • Industries & Services
  • Capabilities
  • Market & Experience
  • Certifications

Przegląd

Strong opportunity

Kluczowe fakty

  • EUR 461.3k estimated value
  • Supplies contract
  • 1 lot
  • Duration until Sep 2027
  • Supply of a PE-ALD system for thin film deposition
  • Substrate sizes from 5x5 mm to at least 150 mm wafers
Pokaż pełne podsumowanie

Open tender by Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. for a plasma-enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) system for thin film deposition on substrates up to 150 mm wafers. Single lot, EU-funded, estimated value €461,344 (net), max budget €549,000 gross. Deadline: 2026-08-04. Award: 70% technical quality, 30% price. Requires at least 2 references and bank guarantee for advance payments. Language: German. Electronic submission via DTVP.

Ryzyka

Maximum budget of €549,000 gross must not be exceeded. Bids exceeding this amount may be rejected.

Highly specific technical requirements for PE-ALD system with multilayer capability and substrate size range. May limit...

Analiza może być niepełna

Przeanalizowano tylko część dokumentacji. Pozostałe dokumenty mogą zawierać dodatkowe wymagania, certyfikaty lub dokumenty do złożenia.

Kluczowe wymagania

Technical

  • Plasma-enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) capability
  • Substrate compatibility up to 150 mm wafers
  • Multilayer deposition without vacuum interruption

Wymagania mogą być niepełne.

Kryteria udzielenia

Lot 1

Technical specifications (70%) — 70%Price (30%) — 30%

Zamawiający

Lokalizacja

Jena, DEU

Identyfikator

DE151282932

Działalność

Education

Części (1)

LOT-0001

ALD-Anlage

Supply of a PE-ALD system for reproducible deposition of conductive, semiconducting, and dielectric thin films on substrates from 5x5 mm to at least 150 mm wafers, including multilayer processing without vacuum break, and a control PC with Windows 11.

SuppliesEU fundedElectronic submission

EUR 461.3k

Szacowana wartość

Lokalizacja

Jena, Germany

Czas trwania

Aug 2026 - Sep 2027

Kategoria

Laboratory, optical and precision equipments

Kryteria udzielenia

Price

Termin

Expired Aug 04, 2026

Szczegóły zamówienia

Data publikacji
07 Jul 2026
Języki
German

Metadane referencyjne

Podstawa prawna
32014L0024

Identyfikatory referencyjne

ID przetargu
469404-2026

Dokumenty (2)

Dokument zamówienia 1Portal składania ofert 1

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