Tenderwize
Wróć do wyszukiwania

European Tender Electron Beam Lithography System

Universiteit Twente·Enschede, Netherlands·EUR 3.5M·Expired · Aug 14, 2026·Open·Supplies
High valueStructured notice only
Oryginalny tytuł ogłoszenia

Netherlands – Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) – European Tender Electron Beam Lithography system

75/100

Ocena szansy

Needs reviewHigh complexity
SuppliesExpired
Skąd ta ocena?

Szansa

75 / 100

Złożoność

70 / 100

Czynniki ryzyka

Missing award criteria and eligibility requirements create uncertainty in bid preparation

System must meet stringent technical specifications (high resolution, speed, substrate compatibility)

Głęboka analiza portfolio

Głęboka analiza dopasowania firmy

Wykorzystuje:

  • Description
  • Industries & Services
  • Capabilities
  • Market & Experience
  • Certifications

Przegląd

Moderate opportunity

Kluczowe fakty

  • EUR 3.5M estimated value
  • Supplies contract
  • 1 lot
  • Supply of an Electron Beam Lithography system
  • Installation and commissioning at the University of Twente
Pokaż pełne podsumowanie

Purchase of an Electron Beam Lithography system for the University of Twente's MESA+ Institute. Single lot, open procedure, EU funded. Estimated value €3.5M. Deadline 14 August 2026. Limited information on award criteria and eligibility requirements.

Ryzyka

Missing award criteria and eligibility requirements create uncertainty in bid preparation

System must meet stringent technical specifications (high resolution, speed, substrate compatibility)

Analiza może być niepełna

Przeanalizowano tylko część dokumentacji. Pozostałe dokumenty mogą zawierać dodatkowe wymagania, certyfikaty lub dokumenty do złożenia.

Kluczowe wymagania

Technical

  • High resolution and high speed pattern definition in electron-sensitive resists
  • Compatibility with substrate sizes up to 200mm diameter
  • Suitable for a wide range of applications (photonics, nano-electronics, etc.)

Wymagania mogą być niepełne.

Zamawiający

Lokalizacja

Enschede, NLD

Profil zamawiającego

Otwórz profil

Identyfikator

50130536

Działalność

Education

Części (1)

LOT-0000

European Tender Electron Beam Lithography System

Supply, installation, and support of a high-resolution, high-speed Electron Beam Lithography system compatible with substrates up to 200mm for academic and industrial research.

SuppliesEU fundedElectronic submission

EUR 3.5M

Szacowana wartość

Lokalizacja

Netherlands

Kategoria

Laboratory, optical and precision equipments

Termin

Expired Aug 14, 2026

Szczegóły zamówienia

Data publikacji
14 Jun 2026
Języki
English

Metadane referencyjne

Podstawa prawna
32014L0024

Identyfikatory referencyjne

ID przetargu
409508-2026

Dokumenty (1)

Podobne przetargi