Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Oryginalny tytuł ogłoszenia
Germany – Microelectronic machinery and apparatus – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Ocena szansy
Skąd ta ocena?
Szansa
60 / 100
Złożoność
40 / 100
Czynniki ryzyka
Short deadline: Tender published 11 June 2026 with submission by 13 July 2026. Bidders may have insufficient time to pr...
Full procurement documents are not analyzed. These likely contain detailed technical specifications, terms of contract...
Głęboka analiza portfolio
Wykorzystuje:
- Description
- Industries & Services
- Capabilities
- Market & Experience
- Certifications
Przegląd
Moderate opportunityKluczowe fakty
- EUR 484.9k estimated value
- Supplies contract
- 1 lot
- Duration 1 YEAR
- Supply of an Atomic Layer Deposition (ALD) system for research activities.
- Delivery and installation at Garching, Germany.
Pokaż pełne podsumowanie
This tender by Technische Universität München (TUM) is for the supply of an Atomic Layer Deposition (ALD) system for research purposes. The procurement is an open procedure under EU Directive 2014/24/EU, with a single lot (LOT-0001). The estimated value is EUR 484,874. The deadline for submission is 13 July 2026. The contract duration is 1 year. The place of performance is Garching, Germany. Only notice data is available; full procurement documents were not analyzed.
Ryzyka
Short deadline: Tender published 11 June 2026 with submission by 13 July 2026. Bidders may have insufficient time to pr...
Full procurement documents are not analyzed. These likely contain detailed technical specifications, terms of contract...
Analiza może być niepełna
Przeanalizowano tylko część dokumentacji. Pozostałe dokumenty mogą zawierać dodatkowe wymagania, certyfikaty lub dokumenty do złożenia.
Kluczowe wymagania
Technical
- Variants are not allowed.
Eligibility
- Tenderers must submit a declaration of total turnover for the last three completed fiscal years (in EUR net).
Administrative
- Electronic submission is required via the DTVP platform.
Wymagania mogą być niepełne.
Kryteria udzielenia
Lot 1
Zamawiający
Lokalizacja
München, DEU
Strona
Profil zamawiającego
Identyfikator
09-1512011-61
Działalność
Education
Części (1)
LOT-0001
Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Supply of one Atomic Layer Deposition system for research at TUM. Detailed specifications are referenced in the procurement documents ("s. Leistungsbeschreibung").
EUR 484.9k
Szacowana wartość
Lokalizacja
Czas trwania
Kategoria
Kryteria udzielenia
Termin
Szczegóły kryteriów
s. Zuschlagskriterien
Uwaga do wartości
Pokaż oryginalne dane TED
Oryginalny opis TED
s. Leistungsbeschreibung
Szczegóły zamówienia
- Data publikacji
- 10 Jun 2026
- Języki
- German
Metadane referencyjne
- Podstawa prawna
- 32014L0024
Identyfikatory referencyjne
- ID przetargu
- 400277-2026
Dokumenty (2)
Podobne przetargi
Spain – Microelectronic machinery and apparatus – Suministro e instalación de un equipo de litografía óptica de proyección en el ultravioleta profundo, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
France – Microelectronic machinery and apparatus – Acquisition d’une paillasse de gravure matériaux III-V pour le CEA de GRENOBLE
Ocena szansy
Skąd ta ocena?
Szansa
60 / 100
Złożoność
40 / 100
Czynniki ryzyka
Short deadline: Tender published 11 June 2026 with submission by 13 July 2026. Bidders may have insufficient time to pr...
Full procurement documents are not analyzed. These likely contain detailed technical specifications, terms of contract...
Głęboka analiza portfolio
Wykorzystuje:
- Description
- Industries & Services
- Capabilities
- Market & Experience
- Certifications