Udzielona umowaOpenSuppliesSpain
Suministro e instalación de equipo de litografía por haz de electrones de alto voltaje EBL (Electron Beam Lithography), destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
1 dostawca nagrodzony•1 pakiet udzielony•2,49 mln € udzielono
Zamawiający: Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P. / Madrid, Spain
Opublikowano 30 sty 2024Udzielono 24 sty 2024
Microelectronic machinery and apparatusLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)Miscellaneous special-purpose machinery
Wartość udzielona
2,49 mln €
Wartość szacunkowa
2,49 mln €
Udzielono za 100% wartości szacunkowej
Data udzielenia
24 sty 2024
Zwycięzcy
1
Udzielone pakiety
1
Wartości udzielenia
Suma z ogłoszenia
2,49 mln €
Suma pakietów
3,01 mln €
Suma z ogłoszenia TED i wartości pakietów nie są dokładnie zgodne.
Zwycięzcy
Raith GmbH
1 pakietDortmund, DEU
3,0 mln € Ta umowa
3 ogłoszeń o udzieleniu•3 udzielonych pakietów•5,55 mln € łącznie
Udzielone pakiety
| Pakiet | Tytuł | Zwycięzca | Wartość | Główny CPV |
|---|---|---|---|---|
| LOT-0000 | Raith GmbH | 3,0 mln € | Microelectronic machinery and apparatus (31712100), Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) (38000000) |