Positioning system for experimental micromagnetization processes
Titre original de l'avis
Germany – Measuring instruments – Positionierungssystem für experimentelle Mikromagnetisierungsprozesse
Score d'opportunité
Pourquoi ce score ?
Opportunité
40 / 100
Complexité
75 / 100
Facteurs de risque
Estimated value and award criteria are not disclosed, which may hide budget constraints or weightings that affect compe...
The positioning system requires sub-micrometer precision and trajectory movement, which may be challenging for non-spec...
Analyse approfondie du portefeuille
Utilise:
- Description
- Industries & Services
- Capabilities
- Market & Experience
- Certifications
Informations clés
- Pouvoir adjudicateur
- Deutsches Zentrum für Luft-und Raumfahrt e. V. | TI-ZVM
- Pays
- Allemagne
- CPV
- 38300000 - Measuring instruments
- Date limite
- Aug 10, 2026
Aperçu
Moderate opportunityFaits clés
- Supplies contract
- 1 lot
- Design and supply of a micro-precision positioning system (XYR-stage and Z-axis)
- Integration with magnetic write heads for micromagnetization experiments
Afficher le résumé complet
The tender is for a positioning system for experimental micromagnetization processes, issued by the German Aerospace Center (DLR). It involves a micometer-precision system with an XYR-stage and Z-axis to precisely position magnetic write heads on substrates (150 mm wafers). The contract is for supplies, open procedure, with a single lot. No estimated value is provided, and award criteria are not disclosed. The deadline for submission is 2026-08-10T08:00:00 UTC. EU funding is indicated in structured data but contradicted in the XML notice as 'no-eu-funds'. Additional procurement documents were not analyzed.
Risques
Estimated value and award criteria are not disclosed, which may hide budget constraints or weightings that affect compe...
The positioning system requires sub-micrometer precision and trajectory movement, which may be challenging for non-spec...
L'analyse peut être incomplète
Seule une partie des documents de consultation a été analysée. Des exigences, certificats ou documents de soumission supplémentaires peuvent exister dans les documents restants.
Exigences clés
Technical
- Micrometer-precision relative positioning of magnetic write heads
- System must allow each write head to reach any position on a 150 mm wafer
- Z-axis must provide sub-micrometer vertical approach
Les exigences peuvent être incomplètes.
Acheteur
Localisation
Braunschweig, DEU
Profil acheteur
Identifiant
Leitweg-ID 992-03005-81
Activité
General public services
Lots (1)
LOT-0001
Positioning system for experimental micromagnetization processes
Supply of a positioning system including XYR-stage (lateral translation and rotation) and Z-axis (vertical translation) for precise positioning of magnetic write heads on substrates. The system must accommodate three write heads (one equipped, two for future upgrade) and achieve sub-micrometer positioning accuracy over a 150 mm wafer. Technical specifications are in attached documents.
Localisation
Catégorie
Date limite
Détails des critères
Mit mikrometergenauer Positionierung von magnetischen Schreibköpfen sollen gezielt permanentmagnetische Dünnfilmschichten magnetisiert werden können. Zweck des Positionierungssystems ist dabei die Erprobung eines Magnetisierungskonzepts. Die mikrometergenaue relative Positionierung eines magnetischen Schreibkopfs auf den zu magnetisierenden Substraten soll in einem Gesamtsystem über eine XYR-Stage (laterale Translation sowie Rotation des Substrats) sowie Z-Achse (vertikale Translation) erfolgen (siehe Systemübersicht.pdf). Letztere wird oberhalb des Substrats an einer spezifizierten Traversen montiert, welche die Magnetisierungsköpfe aufnehmen kann. Sie dient zur vertikalen Annäherung im Submikrometerbereich sowie zur definierten Kontaktherstellung des Schreibkopfs mit dem Substrat, um Magnetisierungen durchzuführen. Beide Teilsysteme – XYR-Stage und Z-Achse – müssen derart aufeinander abgestimmt sein, dass sie die spezifizierte Positionierungspräzision im Gesamtsystem erreichen können und Trajektorienbewegungen ermöglichen. Neben einer ausgerüsteten Z-Achse sollen an der spezifizierten Traversen Aufnahmen für zwei weitere, identische Schreibköpfe für eine potenzielle Nachrüstung eingeplant und mitgeliefert werden. Die konstruierten, mechanischen Aufnahmen müssen so ausgelegt sein, dass jeder Schreibkopf jede Position auf einem 150 mm Wafer erreichen kann. Alle Rahmenbedingungen und Anforderungen der Teilsysteme sind nachfolgend spezifiziert und teilweise aus anhängigen Dokumenten zu entnehmen.
Note sur la valeur
Afficher les données TED originales
Titre original du lot
Positionierungssystem für experimentelle Mikromagnetisierungsprozesse
Description TED originale
Mit mikrometergenauer Positionierung von magnetischen Schreibköpfen sollen gezielt permanentmagnetische Dünnfilmschichten magnetisiert werden können. Zweck des Positionierungssystems ist dabei die Erprobung eines Magnetisierungskonzepts. Die mikrometergenaue relative Positionierung eines magnetischen Schreibkopfs auf den zu magnetisierenden Substraten soll in einem Gesamtsystem über eine XYR-Stage (laterale Translation sowie Rotation des Substrats) sowie Z-Achse (vertikale Translation) erfolgen (siehe Systemübersicht.pdf). Letztere wird oberhalb des Substrats an einer spezifizierten Traversen montiert, welche die Magnetisierungsköpfe aufnehmen kann. Sie dient zur vertikalen Annäherung im Submikrometerbereich sowie zur definierten Kontaktherstellung des Schreibkopfs mit dem Substrat, um Magnetisierungen durchzuführen. Beide Teilsysteme – XYR-Stage und Z-Achse – müssen derart aufeinander abgestimmt sein, dass sie die spezifizierte Positionierungspräzision im Gesamtsystem erreichen können und Trajektorienbewegungen ermöglichen. Neben einer ausgerüsteten Z-Achse sollen an der spezifizierten Traversen Aufnahmen für zwei weitere, identische Schreibköpfe für eine potenzielle Nachrüstung eingeplant und mitgeliefert werden. Die konstruierten, mechanischen Aufnahmen müssen so ausgelegt sein, dass jeder Schreibkopf jede Position auf einem 150 mm Wafer erreichen kann. Alle Rahmenbedingungen und Anforderungen der Teilsysteme sind nachfolgend spezifiziert und teilweise aus anhängigen Dokumenten zu entnehmen.
Détails de la procédure
- Date de publication
- 06 Jul 2026
- Langues
- German
Métadonnées de référence
- Base juridique
- 32014L0024
Identifiants de référence
- ID de l'appel d'offres
- 466947-2026
Documents (1)
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Score d'opportunité
Pourquoi ce score ?
Opportunité
40 / 100
Complexité
75 / 100
Facteurs de risque
Estimated value and award criteria are not disclosed, which may hide budget constraints or weightings that affect compe...
The positioning system requires sub-micrometer precision and trajectory movement, which may be challenging for non-spec...
Analyse approfondie du portefeuille
Utilise:
- Description
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- Capabilities
- Market & Experience
- Certifications