Supply of an Atomic Layer Deposition System

LOT-0001

Vergabeverfahren zur Lieferung einer Atomlagenabscheidungsanlage (ALD)

Ausgeschrieben wird die Lieferung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest, Einweisung und Abnahme eines Systems für sowohl thermische als auch plasma-gestützte Atomlagenabscheidung (ALD) von hochpräzisen Dünnfilmen auf dreidimensional vorstrukturierten und planaren Substraten mit kontrollierten Schichtdicken im Nanometer Bereich. Das geplante System soll die Abscheidung supraleitender Filme höchster Güte, insbesondere Niobiumnitrit, dielektrische Dünnfilme sowie magnetische Materialien und High-k-Dielektrika ermöglichen. Dazu soll das Gerät mit präziser in-situ Schichtdicken-überwachung ausgestattet sein um optimale Prozesskontrolle zu ermöglichen. Die angebotene Leistung umfasst folgende Positionen: - Angebot und Lieferung eines Neugerätes bzw. Neuware - Fristgerechte Lieferung "Frei Bordsteinkante inkl. Abladen" - Funktionstest bzw. Demonstration sowie Einweisung und Inbetriebnahme. - Abnahme des Gerätes beim Kunden vor Ort - Schulung vor Ort (3 Tage á 8 Stunden) für 2 Mitarbeiter der Universität Heidelberg. Aufgrund der Vorgaben des Bewilligungsverfahrens für Großgeräte sind die maximal zur Verfügung stehenden Finanzmittel begrenzt und enden bei 1.039.000,- EUR (einschließlich Mehrwertsteuer oder vergleichbar, Zölle und etwaigen Skonti). Angebote, die diesen Grenzwert überschreiten, können nicht berücksichtigt werden. Kalkulatorisch anzugebende Mehrwertsteuer und Zölle sind Bestandteil des Grenzwerts.