ALD-Anlage
Originaltitel der Bekanntmachung
Germany – Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) – ALD-Anlage
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Warum diese Bewertung?
Chance
60 / 100
Komplexität
50 / 100
Risikofaktoren
Maximum budget of €549,000 gross must not be exceeded. Bids exceeding this amount may be rejected.
Highly specific technical requirements for PE-ALD system with multilayer capability and substrate size range. May limit...
Tiefe Portfolioanalyse
Verwendet:
- Description
- Industries & Services
- Capabilities
- Market & Experience
- Certifications
Überblick
Strong opportunityWichtige Fakten
- EUR 461.3k estimated value
- Supplies contract
- 1 lot
- Duration until Sep 2027
- Supply of a PE-ALD system for thin film deposition
- Substrate sizes from 5x5 mm to at least 150 mm wafers
Vollständige Zusammenfassung anzeigen
Open tender by Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. for a plasma-enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) system for thin film deposition on substrates up to 150 mm wafers. Single lot, EU-funded, estimated value €461,344 (net), max budget €549,000 gross. Deadline: 2026-08-04. Award: 70% technical quality, 30% price. Requires at least 2 references and bank guarantee for advance payments. Language: German. Electronic submission via DTVP.
Risiken
Maximum budget of €549,000 gross must not be exceeded. Bids exceeding this amount may be rejected.
Highly specific technical requirements for PE-ALD system with multilayer capability and substrate size range. May limit...
Analyse kann unvollständig sein
Nur ein Teil der Vergabeunterlagen wurde analysiert. Weitere Anforderungen, Zertifikate oder Einreichungsdokumente können in den übrigen Unterlagen enthalten sein.
Wichtige Anforderungen
Technical
- Plasma-enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) capability
- Substrate compatibility up to 150 mm wafers
- Multilayer deposition without vacuum interruption
Anforderungen können unvollständig sein.
Zuschlagskriterien
Lot 1
Auftraggeber
Ort
Jena, DEU
Kennung
DE151282932
Tätigkeit
Education
Lose (1)
LOT-0001
ALD-Anlage
Supply of a PE-ALD system for reproducible deposition of conductive, semiconducting, and dielectric thin films on substrates from 5x5 mm to at least 150 mm wafers, including multilayer processing without vacuum break, and a control PC with Windows 11.
EUR 461.3k
Geschätzter Wert
Ort
Dauer
Kategorie
Zuschlagskriterien
Frist
Zuschlagsdetails
technische Spezifikationen
Hinweis zum Wert
Originale TED-Daten anzeigen
Originale TED-Beschreibung
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Vergabedetails
- Veröffentlichungsdatum
- 07 Jul 2026
- Sprachen
- German
Referenzmetadaten
- Rechtsgrundlage
- 32014L0024
Referenz-IDs
- Ausschreibungs-ID
- 469404-2026
Dokumente (2)
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60 / 100
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50 / 100
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