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Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Technische Universität München·München, Germany·EUR 484.9k·Expired · Jul 06, 2026·Open·Supplies
Structured notice only
Originaltitel der Bekanntmachung

Germany – Microelectronic machinery and apparatus – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

60/100

Opportunity Score

Needs reviewMedium complexity
SuppliesExpired
Warum diese Bewertung?

Chance

60 / 100

Komplexität

40 / 100

Risikofaktoren

Short deadline: Tender published 11 June 2026 with submission by 13 July 2026. Bidders may have insufficient time to pr...

Full procurement documents are not analyzed. These likely contain detailed technical specifications, terms of contract...

Tiefe Portfolioanalyse

Tiefe Analyse der Unternehmenspassung

Verwendet:

  • Description
  • Industries & Services
  • Capabilities
  • Market & Experience
  • Certifications

Eckdaten der Ausschreibung

Öffentlicher Auftraggeber
Technische Universität München
Land
Deutschland
CPV
31712100 - Microelectronic machinery and apparatus
Frist
Jul 06, 2026
Geschätzter Wert
EUR 484.9k

Überblick

Moderate opportunity

Wichtige Fakten

  • EUR 484.9k estimated value
  • Supplies contract
  • 1 lot
  • Duration 1 YEAR
  • Supply of an Atomic Layer Deposition (ALD) system for research activities.
  • Delivery and installation at Garching, Germany.
Vollständige Zusammenfassung anzeigen

This tender by Technische Universität München (TUM) is for the supply of an Atomic Layer Deposition (ALD) system for research purposes. The procurement is an open procedure under EU Directive 2014/24/EU, with a single lot (LOT-0001). The estimated value is EUR 484,874. The deadline for submission is 13 July 2026. The contract duration is 1 year. The place of performance is Garching, Germany. Only notice data is available; full procurement documents were not analyzed.

Risiken

Short deadline: Tender published 11 June 2026 with submission by 13 July 2026. Bidders may have insufficient time to pr...

Full procurement documents are not analyzed. These likely contain detailed technical specifications, terms of contract...

Analyse kann unvollständig sein

Nur ein Teil der Vergabeunterlagen wurde analysiert. Weitere Anforderungen, Zertifikate oder Einreichungsdokumente können in den übrigen Unterlagen enthalten sein.

Wichtige Anforderungen

Technical

  • Variants are not allowed.

Eligibility

  • Tenderers must submit a declaration of total turnover for the last three completed fiscal years (in EUR net).

Administrative

  • Electronic submission is required via the DTVP platform.

Anforderungen können unvollständig sein.

Zuschlagskriterien

Lot 1

s. Zuschlagskriterien — 40%Kundendienst und technische Hilfe — 20%

Auftraggeber

Ort

München, DEU

Website

www.tum.de

Auftraggeberprofil

Profil öffnen

Kennung

09-1512011-61

Tätigkeit

Education

Lose (1)

LOT-0001

Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Supply of one Atomic Layer Deposition system for research at TUM. Detailed specifications are referenced in the procurement documents ("s. Leistungsbeschreibung").

SuppliesEU fundedElectronic submission

EUR 484.9k

Geschätzter Wert

Ort

Garching, Germany

Dauer

1 YEAR

Kategorie

Microelectronic machinery and apparatus

Zuschlagskriterien

s. Zuschlagskriterien; Kundendienst und technische Hilfe

Frist

Expired Jul 13, 2026

Vergabedetails

Veröffentlichungsdatum
10 Jun 2026
Sprachen
German

Referenzmetadaten

Rechtsgrundlage
32014L0024

Referenz-IDs

Ausschreibungs-ID
400277-2026

Dokumente (2)